保護臭氧層維也納公約
發(fā) 文 號:聯合國
發(fā)布單位:聯合國
發(fā)布日期:1985-03-22
實施日期:1988-09-22
?。ǎ保┏粞鯇訝顩r(即柱容量和重直分布的空間和時間變異)。利用衛(wèi)星和地面系統相結合的辦法使全球臭氧觀察系統充分發(fā)揮作用;
(2)對流層和平流層的HOx、NOx、C10x和碳屬源氣體濃度;
(3)從地面到中間層的氣溫,利用地面和衛(wèi)星系統;
?。ǎ矗┻_到地球大氣層的波長分辨太陽通量和離開地球大氣層的熱輻射利用衛(wèi)星衡量;
(5)在紫外線范圍內達到地面的具有生物影響的波長分辨太陽通量;
(6)從地面到中間層的煙霧體特性和分布,利用地面、空中和衛(wèi)星系統;
?。ǎ罚夂蛑匾償担椒ㄊ蔷S持高質量氣象表面衡量的方案;
?。ǎ福┖哿课锓N、氣溫、太陽通量和煙霧體,利用分析全球數據的經過改善的方法。
?。常s各締約國應在顧及發(fā)展中國家的特別需要的情況下合作,促進參加本附件所列各種研究和有系統觀察所需的適當科學和技術訓練。應特別注意觀察儀器和觀察方法的相互校正,以產生可比較的或標準化的科學數據集。
?。矗旅嬉圆话磧?yōu)先順序排列出的各種自然和人類來源的化學物質,被認為可能改變臭氧層的化學和物理特性。
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一氧化碳的重要來源是自然界和人類,據認為對對流層的光化過程有重要的直接作用,對平流層的光化過程則有間接作用。
(2)二氧化碳(CO2 )
二氧化碳的重要來源是自然界和人類,通過影響大氣的熱構造而影響到平流層的臭氧。
(3)甲烷(CH4 )
甲烷來自自然界和人類,對平流層和對流層的臭氧都有影響。
?。ǎ矗┓羌淄闊N類物種
非甲烷烴類物種含有許多化學物質,來自自然界和人類,對對流層的光化過程有直接作用,對平流層光化過程則有間接作用。
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(1)氧化亞氮(N2 O)
氧化亞氮主要來自自然界,不過人類來源也變得愈來愈重要。氧化亞氮是平流層NOx的主要來源,NOx對于平流層臭氧充裕的控制有重要作用。
(2)氮氧化物(NOx)
?。危希牡仄矫鎭碓?,只對對流層的光化過程有直接的重要作用,對平流層的光化過程則有間接作用,而接近對流層頂的NOx注射可能對上對流層和平流層的臭氧直接引起變化。
(c)氯物質
?。ǎ保┩耆u化鏈烷例如CCl4 ,CFCl,(CFC-11),CF2 Cl2 (CFC-12),C2 F,Cl,(CFC-113),C2 F4 Cl2 (CFC-114)
完全鹵化鏈烷來自人類,是ClOx的一個來源,對臭氧的光化過程有重要作用,尤其是在海拔30-50公里區(qū)域。
(2)部分鹵化鏈烷,例如CH,Cl,CHF2 Cl(CFC-22),CH,CCl3 ,CHFCl2 (CFC-21)
?。茫?,Cl來自自然界,而上列其他部分鹵化鏈烷則來自人類。這些氣體也是平流層ClOx的來源。
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全部鹵化鏈烷,例如CF,Br
這些氣體來自人類,是BrOx的來源,其作用類似ClOx。
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(1)氫(H2 )
氫是來自自然界和人類,對平流層的光化過程的作用不大。
(2)水(H2 )
水來自自然界,對平流層和對流層的光化過程都有重要作用。平流層水蒸氣的本地來源包括甲烷的氧化以及較小程度上氫的氧化。
【章名】 附件二 資 料 交 換
?。保竟s各締約國認識到收集和共同利用資料是實現本公約各項目標及保證所采取的一切行動確屬適當和公允的一個重要途徑。因此,各締約國應致力于科學、技術、社經、商業(yè)和法律資料的交換。
?。玻竟s各締約國于決定收集和交換何種資料時,應考慮資料效用及收集時所需的費用。各締約國還認識到依照本附件進行的合作應符合關于專利權、貿易機密、保護機密資料和所有權資料的國家法律、條例和慣例。
?。常茖W資料
包括下列資料:
(a)政府方面和私人方面已規(guī)劃好的和進行中的研究工作,以促進研究方案的協調,使國家和國際間的可用資源獲得最有效的利用;
(b)研究工作所需的原始資料;
?。ǎ悖┛d于經仔細審閱的文獻內的關于了解地球大氣物理和化學及其易變性的科學研究結果,特別是關于臭氧層狀況及臭氧層柱容量或垂直分布分時標變化對于人類健康、環(huán)境和氣候的影響的科學研究結果;
?。ǎ洌┭芯拷Y果的評價及關于未來研究工作的建議。
?。矗夹g資料
包括下列資料:
?。ǎ幔├脗溥x化學物質或備選技術來減少可以引起臭氧變化的物質排放以及有關已計劃和進行中的研究工作的可行性和費用;
?。ǎ猓没瘜W或其他備選物質和備選技術的局限性和危險性。
?。担P于附件一內所提各種物質的社經和商業(yè)資料
包括下列資料:
?。ǎ幔┥a和生產能力;
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?。ǎ洌┛赡荛g接改變臭氧層的人類活動以及控制此種活動的管理行動的代價、危險和利益。
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包括下列資料:
?。ǎ幔┡c保護臭氧層有關的國家法律、行政措施和法律研究;
?。ǎ猓┡c保護臭氧層有關的國際協定,包括雙邊協定;
?。ǎ悖┡c保護臭氧層有關的執(zhí)照簽發(fā)辦法和條件以及專利效用。