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平面磁控濺射靶材 光學薄膜用硅靶

標 準 號: YS/T 719-2009
替代情況:
發(fā)布單位: 中華人民共和國工業(yè)和信息化部
起草單位: 利達光電股份有限公司
發(fā)布日期: 2009-12-04
實施日期: 2010-06-01
點 擊 數:
更新日期: 2017年03月12日
內容摘要

本標準規(guī)定了平面磁控濺射光學薄膜用硅靶材的要求、試驗方法、檢驗規(guī)則、標志、包裝、運輸、貯存及訂貨單(或合同)內容。
本標準適用于平面磁控濺射光學薄膜用硅靶材。
 

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