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硅基MEMS制造技術(shù) 版圖設(shè)計(jì)基本規(guī)則

標(biāo) 準(zhǔn) 號(hào): GB/T 28274-2012
替代情況:
發(fā)布單位: 中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局、中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
起草單位: 北京大學(xué)、中機(jī)生產(chǎn)力促進(jìn)中心、中國(guó)電子科技集團(tuán)第十三研究所、中國(guó)科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所等
發(fā)布日期: 2012-05-11
實(shí)施日期: 2012-12-01
點(diǎn) 擊 數(shù):
更新日期: 2016年12月14日
內(nèi)容摘要

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了微結(jié)構(gòu)加工時(shí),光刻版圖設(shè)計(jì)中圖形設(shè)計(jì)應(yīng)遵循的基本規(guī)則。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于采用接觸式單/雙面光刻、氧化擴(kuò)散、化學(xué)氣相淀積(CVD)、物理氣相淀積(PVD)、離子注入、反應(yīng)離子刻蝕(RIE)、氫氧化鉀(KOH)腐蝕、硅-玻璃對(duì)準(zhǔn)靜電結(jié)合、砂輪劃片等基本工藝方法。

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