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真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件

標(biāo) 準(zhǔn) 號: GB/T 11164-2011
替代情況: 替代 GB/T 11164-1999
發(fā)布單位: 中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局、中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
起草單位: 北京北儀創(chuàng)新真空技術(shù)有限責(zé)任公司、上海曙光機(jī)械制造廠有限公司、蘭州真空設(shè)備有限責(zé)任公司等
發(fā)布日期: 2011-11-21
實(shí)施日期: 2012-06-01
點(diǎn) 擊 數(shù):
更新日期: 2012年11月21日
內(nèi)容摘要

     本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了真空鍍膜設(shè)備的技術(shù)要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則及標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸和貯存等要求。 
     本標(biāo)準(zhǔn)適用于壓力在10-5 Pa~10-3 Pa范圍的真空蒸發(fā)類、濺射類、離子鍍類真空鍍膜設(shè)備。

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