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半導體晶片近邊緣幾何形態(tài)評價 第1部分：高度徑向二階導數(shù)法（ZDD）
標 準 號：
GB/T 43894.1-2024
替代情況：
發(fā)布單位：
國家市場監(jiān)督管理總局 國家標準化管理委員會
起草單位：
山東有研半導體材料有限公司、浙江麗水中欣晶圓半導體科技有限公司
發(fā)布日期：
2024-04-25
實施日期：
2024-11-01
點 擊 數(shù)：
更新日期：
2024年06月05日
內(nèi)容摘要
本文件描述了一系列高度徑向二階導數(shù)法(ZDD)評價半導體晶片的近邊緣幾何形態(tài)的方法。
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Tag:
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