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硅襯底中氮濃度的二次離子質(zhì)譜測量方法

標準號： SJ/T 11493-2015

替代情況：

發(fā)布單位：中華人民共和國工業(yè)和信息化部

起草單位：工業(yè)和信息化部電子工業(yè)標準化研究院

發(fā)布日期： 2015-04-30

實施日期： 2015-10-01

點擊數(shù)：

更新日期： 2021年04月09日

內(nèi)容摘要

本標準規(guī)定了用二次離子質(zhì)譜法（SIMS）對硅襯底單晶體材料中氮總濃度的測試方法。

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