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焦深與最佳聚焦的測量規(guī)范

標 準 號: GB/T 17865-1999
替代情況:
發(fā)布單位: 國家質(zhì)量技術(shù)監(jiān)督局
起草單位: 中國科學(xué)院微電子中心
發(fā)布日期: 1999-09-01
實施日期: 2000-06-01
點 擊 數(shù):
更新日期: 2020年02月04日
內(nèi)容摘要

本標準只涉及集成電路生產(chǎn)中所用的光刻技術(shù)及其關(guān)系密切的技術(shù)的聚集與焦深測量問題。由于設(shè)備技術(shù)多種多樣,因而不可能提出這些參數(shù)的明確測量方法。本標準只提供基本準則。

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